1.半導體工（gōng）廠廢氣簡述

隨著科技的飛速發（fā）展，半導體在各個領（lǐng）域的應用越來（lái）越廣泛，如智能手機、電腦、汽（qì）車等。然而半導（dǎo）體工廠在生產過程中（zhōng）會產（chǎn）生大量的廢氣汙染物，主要為酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣（qì）等汙染（rǎn）物。如果這些廢氣不經過有效的處理，直接排放（fàng）到大氣中，不僅對環境造成嚴重（chóng）的汙染，還會對（duì）人體健康造成傷害。因此，需要對半導體工（gōng）廠廢氣進行淨（jìng）化（huà）處理（lǐ）後達標排放（fàng）。

2.半導體（tǐ）工廠廢氣處理方（fāng）法

半導體工廠在生產（chǎn）過程中會產（chǎn）生（shēng）廢氣，主要（yào）為酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣等廢氣汙染物。酸性氣體采用堿液噴淋洗滌法處理，堿性氣體采用酸液噴淋洗滌法處理，而（ér）對（duì）於有機廢氣（qì）處理方法有很多種，常見主（zhǔ）要有活性炭（tàn）吸附法、燃燒（shāo）法、UV光解淨化法等，接下來，天浩洋環保小編詳細（xì）介紹半導（dǎo）體工廠廢氣處理方（fāng）法。

2.1 酸性、堿性氣體處理方（fāng）法

酸性廢氣處理方法是采用“堿液噴淋塔”進行處理，以10%的氫氧化鈉溶液（yè）為吸收液。堿性廢氣處理方法（fǎ）是采用“酸液噴淋（lín）塔”進行處理，以10%的硫（liú）酸溶（róng）液為（wéi）吸收液。酸性（xìng）、堿性廢氣洗滌淨化法，應用相當普遍，具有運（yùn）行穩定，處理效果好，投資少，處理費用低等優點。

2.2 有機廢氣處理方法

（1）活性炭吸附法

活（huó）性炭吸附法主要原理就是利（lì）用（yòng）多孔固體吸附劑（jì）（活性碳、矽膠、分子篩等）來（lái）處理有機廢氣，這樣就能（néng）夠通過化學鍵力或者是分子引力充分吸附有害成分，並且將其吸附在吸附劑的（de）表麵（miàn），從而達（dá）到淨化有（yǒu）機廢氣的目的。吸附法目前主要應用於大風量、低濃度（≤800mg/m3）、無顆（kē）粒物、無粘性物、常溫的低濃度有（yǒu）機廢氣淨化處理。

活（huó）性炭淨化率高（活性炭吸附可達到90%以上），實用遍及，操縱簡單，投資低。在吸附飽和（hé）以後（hòu）需要更換新的活性炭（tàn），更換活性炭需要費用，替換（huàn）下（xià）來的飽（bǎo）和（hé）以後的活性炭也（yě）是需要找專（zhuān）業人（rén）員進（jìn）行危（wēi）廢處理，運行費用高。

（2）燃燒法

燃燒法隻在揮發性有機物在高溫及空氣充足的條件下進行完全燃燒，分解為CO2和H2O。燃燒法適（shì）用於各類有機廢氣，可（kě）以分為直接燃（rán）燒、熱力（lì）燃燒和催化燃燒。

排放濃（nóng）度大於5000mg/m³ 的高濃度廢氣一般采用直接燃燒（shāo）法，該方法將VOCs廢氣作為燃料（liào）進（jìn）行燃燒，燃燒溫度一般（bān）控製在1100℃，處理效（xiào）率高，可以達到95％一99％。

熱力燃燒法適合於處理濃度在1000—5000 mg/m³ 的廢氣，采用熱力（lì）燃燒法，廢氣中VOCs濃度較（jiào）低，需要借（jiè）助其（qí）他燃料或助燃氣體，熱力燃（rán）燒所需的溫度較直接燃燒（shāo）低（dī），大約為540—820℃。燃（rán）燒法處理有機廢氣處理效率高，但有機廢氣若含有S、N等元素，燃燒後產生的廢氣直接外排會導致（zhì）二次汙染。

通過熱力燃（rán）燒或者催化燃燒法處理有機廢氣（qì），其淨化率（lǜ）是比較高的，但是其投資運營成（chéng）本極高（gāo）。因廢氣排放的點多且分散，很難實現集中收集。燃燒裝置需要多套且需要很大（dà）的占地麵積。熱力燃燒比較適合（hé）24小（xiǎo）時連續不斷運行且濃度較高而穩定（dìng）的廢氣工況，不適合間斷性的生產產（chǎn）線工況。催化燃燒的投資和運營費用相（xiàng）對熱力燃燒較低，但淨化效率也相對較低一些；但貴金屬催化（huà）劑容易（yì）因（yīn）為廢氣（qì）中（zhōng）的雜質（如硫化物）等造成（chéng）中毒失效，而更換催化劑的費用很高；同（tóng）時對廢氣進氣條件的控製非常嚴格，否則（zé）會造成（chéng）催化（huà）燃燒室堵塞而引起（qǐ）安全事故。

（3）UV光解淨化法

UV光解淨化法利用高能UV紫（zǐ）外線（xiàn）光（guāng）束分解（jiě）空氣中的氧分（fèn）子產生遊離氧（即（jí）活性氧），因（yīn）遊離氧所攜帶正負（fù）電子不平衡所以需與氧分子結合（hé），進而產生臭（chòu）氧（yǎng），臭氧具有很強的氧（yǎng）化（huà）性，通過臭氧對有機廢氣、惡臭氣體進行協（xié）同光解氧化作用，使有（yǒu）機廢氣、惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、CO2和H2O。

UV光解淨化（huà）法具有高效處理效率，可達到95%以（yǐ）上；適應性強，可適應中低濃度，大氣量（liàng），不同有機廢氣以及惡臭氣體物（wù）質的淨化處理；產品性能（néng）穩定，運行穩定可（kě）靠，每天可24小時（shí）連續工作；運行成本低，設備耗能低，無需（xū）專人管理與維護，隻需作定期檢查。UV光解法因采用光解原理，模塊采取隔爆處理，消除了安全（quán）隱（yǐn）患，防火、防爆、防腐蝕性能高，設（shè）備性能安全穩定，特別適用於（yú）化工、製藥（yào）等防爆要求高的（de）行業。

以上關於（yú）半導體（tǐ）工廠廢氣處理方法介紹，希望可以幫到您，其實對（duì）於半（bàn）導（dǎo）體工廠廢氣處理，一般是需要根據廢氣的濃度、產生量、廢氣成分、如何收集等方麵進行設（shè）計收（shōu）集處理。如果您（nín）有半導體工廠廢氣需要淨化處理（lǐ），可以（yǐ）隨時撥打400 808 2272電話，谘詢天浩洋環保,為您提供半導體工廠廢氣處理方案及設備。